廢氣處理設(shè)備介紹

  廢氣處理設(shè)備，主要是指運用不同工藝技術(shù)，通過回收或去除、減少排放尾氣的有害成分，達到保護環(huán)境、凈化空氣的一種環(huán)保設(shè)備，讓我們的環(huán)境不受到污染。

優(yōu)勢：高效除惡臭，脫臭效率較高可達99%以上；適應(yīng)性強，可適應(yīng)低中高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理；產(chǎn)品性能穩(wěn)定，運行穩(wěn)定可靠，每天可24小時連續(xù)工作；運行成本低本，設(shè)備耗能低，無需專人管理與維護，只需作定期檢查。應(yīng)用范圍：印刷廠、噴涂廠、印染廠、電子廠、塑料廠、涂料廠、家具廠、煉油廠、橡膠廠、化工廠、造紙廠、皮革廠、農(nóng)藥廠、制藥廠、食品加工廠、飼料廠、養(yǎng)殖廠、屠宰廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站等惡臭氣體、工業(yè)廢氣的凈化處理。可去除氣體：氨氣、****胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、甲醛、甲苯、二甲苯、****苯、甲醇、二甲二硫、甲烷、非甲烷總烴、丙酮、二硫化碳、二氧化硫、苯、苯酚、苯胺、苯乙烯、乙酸乙酯、乙醛、丙烯醛、、VOC類氣體、有機廢氣。吸收設(shè)備吸收法采用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對VOCs進行吸收，再利用VOCs和吸收劑物理性質(zhì)的差異進行分離。

  含VOCs的氣體自吸收塔底部進入塔內(nèi)，在上升過程中與來自塔頂?shù)奈�收劑逆流接觸，凈化后的氣體由塔頂排出。吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器后，進入汽提塔頂部，在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經(jīng)過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。吸附設(shè)備  在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上，此現(xiàn)象稱為吸附。吸附處理廢氣時，吸附的對象是氣態(tài)污染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質(zhì)，多孔固體物質(zhì)稱為吸附劑。

固體表面吸附了吸附質(zhì)后，一部被吸附的吸附質(zhì)可從吸附劑表面脫離，此現(xiàn)附。而當吸附進行一段時間后，由于表面吸附質(zhì)的濃集，使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求，此時需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質(zhì)脫附，以協(xié)的吸附能力，這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過程，達到除去廢氣中污染物質(zhì)并回收廢氣中有用組分。凈化設(shè)備  燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理。治理設(shè)備  等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體，其英文名稱是plasma，它是由美國科學(xué) muir，于1927年在研究低氣壓下汞蒸氣中放電現(xiàn)象時命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成，但電子和正離子的電荷數(shù)必須體表現(xiàn)出電中性，這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導(dǎo)電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同，因此又有人把它稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度，等離子體通�？梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài)，它主要應(yīng)用在受控?zé)岷朔磻?yīng)研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài)，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。

  截至2013年，對低溫等離子體的作用機理研究認為是粒子非彈性碰撞的結(jié)果。低溫等離富含電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子，其中高能電子與氣體分子（原子）發(fā)生撞，將能量轉(zhuǎn)換成基態(tài)分子（原子）的內(nèi)能，發(fā)生激發(fā)、離解和電離等一系列過秸處于活化狀態(tài)。一方面打開了氣體分子鍵，生成一些單分子和固體微粒；另一力生．OH、H2O2．等自由基和氧化性極強的O3，在這一過程中高能電子起決定性作用，離子的熱運動只有副作用。常壓下，氣體放電產(chǎn)生的高度非平衡等離子體中電子溫層氏度）遠高于氣體溫度（室溫100℃左右）。在非平衡等離子體中可能發(fā)生各種類型的化學(xué)反應(yīng)，主要決定于電子的平均能量、電子密度、氣體溫度、有害氣體分子濃度和≥氣體成分。這為一些需要很大活化能的反應(yīng)如大氣中難降解污染物的去除提供了另外也可以對低濃度、高流速、大風(fēng)量的含揮發(fā)性有機污染物和含硫類污染物等進行處理。  常見的產(chǎn)生等離子體的方法是氣體放電，所謂氣體放電是指通過某種機制使一電子從氣體原子或分子中電離出來，形成的氣體媒質(zhì)稱為電離氣體，如果電離氣由外電場產(chǎn)生并形成傳導(dǎo)電流，這種現(xiàn)象稱為氣體放電。根據(jù)放電產(chǎn)生的機理、氣體的壓j源性質(zhì)以及電極的幾何形狀、氣體放電等離子體主要分為以下幾種形式：①輝光放電；③介質(zhì)阻擋放電；④射頻放電；⑤微波放電。無論哪一種形式產(chǎn)生的等離子體，都需要高壓放電。容易打火產(chǎn)生危險。由于對諸如氣態(tài)污染物的治理，一般要求在常壓下進行。5、光催化和生物凈化設(shè)備  光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無毒無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。

從理論上講，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應(yīng)有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是較廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。稀釋擴散法原理：將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣，或用無臭空氣稀釋，降低惡臭物質(zhì)濃度以減少臭味。適用范圍：適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優(yōu)點：費用低、設(shè)備簡單。缺點：易受氣象條件限制，惡臭物質(zhì)依然存在。水吸收法原理：利用臭氣中某些物質(zhì)易溶于水的特性，使臭氣成分直接與水接觸，從而溶解于水達到脫臭目的。適用范圍：水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優(yōu)點：工藝簡單，管理方便，設(shè)備運轉(zhuǎn)費用低 產(chǎn)生二次污染，需對洗滌液進行處理。缺點：凈化效率低，應(yīng)與其他技術(shù)聯(lián)合使用，對硫醇，脂肪酸等處理效果差。曝氣式脫臭法  原理：將惡臭物質(zhì)以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中，通過懸浮生長的微生物降解惡臭物質(zhì) 適用范圍廣。適用范圍：截至2013年，日本已用于糞便處理場、污水處理廠的臭氣處理。優(yōu)點：活性污泥經(jīng)過馴化后，對不超過極限負荷量的惡臭成分，去除率可達99.5%以上。缺點：受到曝氣強度的限制，該法的應(yīng)用還有一定局限。催化氧化工藝原理：反應(yīng)塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料，填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當惡臭氣體在引風(fēng)機的作用下穿過填料層，與通過特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點：占地小，投資低，運行成本低；管理方便，即開即用。缺點：耐沖擊負荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。低溫等離子體低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。

  低溫等離子體空氣凈化設(shè)備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣，不會導(dǎo)致二次污染。1、生物濾池除臭系列特點：① 不需要高成本的化學(xué)藥劑，運行穩(wěn)定，耐腐蝕，耐負荷沖擊能力大。② 針對特定有害氣體成份馴化適當?shù)奈⑸�物，提高單位容積的負荷率。③ 填料采用有機無機混合填料，比表面積大，孔隙率高，并可為微生物提供營養(yǎng)，可支撐大量不同種群微生物群。④ 填料活性介質(zhì)的損失小、可減少能耗，降低運行費用。⑤ 采用強化自然生物降解污染物，無二次污染物產(chǎn)生。⑥ VOC去除率高，對H2S的去除率可達99%。⑦ PLC控制系統(tǒng)自動運行，無需人員管理。適用場所：① 污水處理廠預(yù)處理、生化處理、污泥處理過程惡臭氣體的凈化和治理。② 垃圾處理過程中的堆放、分揀、堆肥、填埋、焚燒以及垃圾滲濾液污水處理站惡臭氣體的凈化和治理。③ 涂料與噴漆、煉焦、制藥、橡膠塑料、印染皮革、有機染料及合成材料廠、農(nóng)藥和發(fā)酵制藥、石油化工、制鞋廠、印刷廠、造紙廠、畜牧養(yǎng)殖、飼料加工、糞便處理等惡臭氣體凈化和治理。2、化學(xué)洗滌除臭系列特點：① 采用單級或多級串聯(lián)洗滌，對污染物去除徹底，去除效率高。② 處理高濃度惡臭廢氣具有明顯優(yōu)勢，運行穩(wěn)定。③ 具有啟動速度快、可間歇運行、耐沖擊負荷強、受溫度影響小、運行穩(wěn)定等特點。④ 自動化程度高，占地面積小。適用場所：Wintop-CW化學(xué)洗滌除臭設(shè)備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理。3、離子除臭系列特點：① 能解決大氣污染，改善作業(yè)環(huán)境空氣質(zhì)量。② 運行程序化、智能化，可連續(xù)運行或間斷式運行。③ 不產(chǎn)生臭氧，對呼吸系統(tǒng)無刺激；對管道及設(shè)備無腐蝕性，并對儀器儀表有保護作用。④ 設(shè)備可依附于通風(fēng)系統(tǒng)上，不需要占用很大的空間。⑤ 操作維護簡單，零配件更換方便，無需專人值守。⑥ 主要設(shè)備和部件原裝進口，設(shè)備壽命長（離子管使用壽命2萬小時以上，主體設(shè)備使用年限15年以上）。適用場所：① 食品加工業(yè)（用于水產(chǎn)、肉禽、蔬菜等食品加工車間，冷藏室等）。主要功能： 降低空氣中粉塵濃度；消除孢子、細菌病毒、異味。② 污水、垃圾處理廠等市政行業(yè)（用于污水廠、污水泵站、污泥堆場、糞便處理場等）主要功能：去除有害氣體；消除懸浮物及有害氣體、異味；減少灰塵、殺滅病毒。③ 室內(nèi)空氣凈化（用于飯店、機場、車站、游輪、客房、商店、展覽館、火車站、體育館等）。主要功能：減少空氣中可吸入顆粒物；防止細菌侵害及交叉感染；提高室內(nèi)空氣的離子濃度。④ 化學(xué)工業(yè)的靜電、除塵（用于化學(xué)工業(yè)、電腦機房、造紙工業(yè)、電子工業(yè)、印刷業(yè)等）。主要功能：減少空氣中的灰塵；消除靜電、異味、揮發(fā)性有機溶劑。4、活性炭除臭系列特點：① Wintop-CD活性炭除臭設(shè)備采取切線出風(fēng)、環(huán)狀過濾、中間進風(fēng)、上不加料、下部卸料的結(jié)構(gòu)，克服了傳統(tǒng)的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設(shè)備投資高、更換活性炭困難等缺陷，使活性炭過濾設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計近乎于****。② Wintop-CD活性炭除臭設(shè)備是等體積傳統(tǒng)活性炭過濾設(shè)備過濾面積的2~4倍，阻力只有傳統(tǒng)的1/2~1/3。環(huán)形活性炭凈化裝置由于采用切線出風(fēng)，其方向不受場地條件限制可任意擺放，抽風(fēng)機和設(shè)備對接極易，排放管可直接固定于設(shè)備上，系統(tǒng)整齊合理。適用場所：① 垃圾焚燒過程的垃圾坑除臭。② 低濃度有機廢氣等。5、植物液除臭系列特點：① 可與各種氣體反應(yīng)。② 可生物降解。③ 全天然。④ 不是臭味掩蔽劑。⑤ 除臭迅速****。⑥ 無毒、無揮發(fā)、無污染。⑦ 對人類健康和動植物無害。⑧ 使用安全、操作簡單。適用場所：① 工業(yè)區(qū)（石油石化，輪胎橡膠生產(chǎn)，冶煉）。② 市政工程（污水處理，垃圾填埋……）。③ 畜禽養(yǎng)殖（養(yǎng)豬場、養(yǎng)雞場，動物園……）。④ 家居及公共場所（住宅，醫(yī)院，賓館，健身房……）。